Топография наноразмерных

Monografiya posvyashhena komplexnomu opticheskomu i jelektronno-mikroskopicheskomu issledovaniju radiacionnyh defektov v ionnyh kristallah, sozdavaemyh fotonami vakuumnogo ul'trafioletovogo izlucheniya v rezhime odno - i dvuhfotonnogo pogloshheniya, rentgenovskoj i sinhrotronnoj radiaciej, jelektronami razlichnoj jenergij, a takzhe vysokojenergeticheskimi tyazhelymi ionami. Cel' monografij - rassmotret' mehanizmy radiacionnogo defektoobrazovaniya v granecentrirovannyh kubicheskih kristallah v usloviyah podvizhnosti anionnyh, kationnyh intersticialov i vakansij, a takzhe vyyavit' specificheskie osobennosti sobstvennyh jelektronnyh vozbuzhdenij v ob#emno-centrirovannyh kubicheskih kristallah v shirokom diapazone temperatur (6700 K). Poluchennye v hode issledovanij rezul'taty vazhny dlya ponimaniya mehanizmov povrezhdajushhego dejstviya radiacii na razlichnye konstrukcionnye materialy, primenyajushhiesya v bridernyh reaktorah i termoyadernyh ustanovkah, na opticheskie kristally i stenki hranilishh radioaktivnyh othodov v solyanyh shahtah, a takzhe dlya razrabotki radiacionnyh tehnologij polucheniya aktivnyh sred na centrah okraski: v perestraivaemyh lazerah, opticheskih zatvorah, dozimetrah, v sredah dlya trehmernoj zapisi informacii.