Achtes Kolloquium ber Metallkundliche Analyse mit Besonderer Bercksichtigung der Elektronenstrahl- und Ionenstrahl-Mikroanalyse Wien, 27. bis 29. Oktober 1976

Die chemische Zusammensetzung der Oberflache von Materia- lien, die aus zwei oder mehr Komponenten bestehen, wird sehr oft durch den Einfluss der Primarelektronen sowie durch das Zerstau- ben, wie es zur Reinigung der Probenoberflache, bzw. zur Aufnahme von Tiefenprofilen verwendet wird, drastisch verandert. In einer quantitativen Beschreibung der Oberflachenzusammensetzung mus- sen daher die verschiedenen Effekte, die durch die primaren Elek- tronen oder Ionen hervorgerufen werden, grundsatzlich berucksich- tigt werden. Entsprechend der Verschiedenartigkeit der auftreten- den Effekte scheint es unmoeglich, dafur ein allgemeingultiges Modell aufzustellen. Mit der vorliegenden Arbeit wird versucht, den Einfluss der er- wahnten Primarteilchen bei der Untersuchung von Oxiden, Carbo- naten, Silikaten und Legierungen zu demonstrieren. Im zweiphasi- gen Legierungssystem Ag-Cu zeigte sich ein zusatzlicher Effekt, der durch die bevorzugte Oberflachendiffusion von Silber erklart wer- den kann. Summary Influence of the Prohing Electron Beam and Sputtering in AES The prohing electron beam and sputtering used for cleaning and depth profiling influences the chemical composition of composite materials often in a dramatic way. Therefore, in a complete analysis several effects in- duced by the incident electrons or ions have to be included in a quantitative description of the surface composition. No general model can be given as these effects depend on the type of material investigated. The present paper deals with oxides, carbonates, silicates, and alloys to show the influence of the prohing electrons or ions.