Angewandte Oberflchenanalyse mit SIMS Sekundr-Ionen-Massenspektrometrie AES Auger-Elektronen-Spektrometrie XPS Rntgen-Photoelektronen-Spektrometrie

In Anbetracht der rasch wachsenden Bedeutung der Oberflchenanalytik schien es angebracht, die drei Methoden, welche bereits in einem sehr hohen Mae fr die industrielle und forschungsbezogene Routineanalytik eingesetzt und hufig mit einander kombiniert werden, nmlich SIMS, AES und XPS in einer Monographie darzustellen. Um die notwendige Tiefe der Darstellung zu erreichen, wurde dieses Buch nicht von einem Autor verfat, sondern greift auf drei verschiedene Autoren mit unter schiedlichen Spezialkenntnissen zurck. Dies garantiert dem Leser die direkte Ver mittlung von theoretischem und experimentellem Wissen auf entsprechendem Niveau fr die jeweiligen methodischen Teilgebiete. Anderseits ergeben sich dadurch gewisse Unterschiede in der Darstellungsweise und Symbolik zwischen den drei Kapiteln. Dies ist aber sicherlich von untergeordneter Bedeutung im Vergleich zu der durch Experten zu vermittelnden inhaltlichen Substanz. Die einzelnen Kapitel behandeln SIMS, AES und XPS hinsichtlich methodischem Prinzip, physikalischen Grundlagen, Gertetechnik, amilytischem Informationsgehalt, qualitativer und quantitativer Analyse und praktischem Einsatz fr aktuelle Frage stellungen der Oberflchenanalyse von Festkrpern - insbesondere aus dem Bereich der Werkstoffentwicklung. Die in den einzelnen Kapiteln angefhrten Ergebnisse wurden im brigen mit Hochleistungsgerten der neuesten Generation erhalten, so da der derzeitig aktuelle Leistungsstand der- Methodik dargestellt wird. Der Leser soll damit nicht nur eine Methode im Detail kennenlernen knnen, sondern auch durch die Anfhrung zahlreicher fr das experimentelle Arbeiten wichtiger Daten einen Einstieg in den praktischen Einsatz der Methoden erhalten.