bokomslag Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
Data & IT

Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications

John E J Schmitz

Inbunden

1269:-

Funktionen begränsas av dina webbläsarinställningar (t.ex. privat läge).

Uppskattad leveranstid 7-12 arbetsdagar

Fri frakt för medlemmar vid köp för minst 249:-

  • 251 sidor
  • 1992
This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.
  • Författare: John E J Schmitz
  • Format: Inbunden
  • ISBN: 9780815512882
  • Språk: Engelska
  • Antal sidor: 251
  • Utgivningsdatum: 1992-12-01
  • Förlag: William Andrew