Etude de Proc d s de Polym risation Par Plasma

Ce travail démontre la faisabilité de deux procédés de polymérisation d'un précurseur gazeux dans un plasma RF basse pression et liquide déposé sur un substrat activé par DBD à pression atmosphérique pour l'obtention de couches minces de polymère. L'étude porte sur la fonctionnalisation de substrats organiques par des fonctions éther, connues pour leurs propriétés d'anti-adhésion vis-à-vis des microorganismes biologiques. Le procédé "voie sèche" par plasma RF basse pression induit la fragmentation du précurseur gazeux de façon contrôlée. Les dépôts formés possèdent un taux de rétention de la fonction C-O compris entre 70 et 80% suivant le monomère utilisé. Le procédé "voie humide" permet d'activer, par DBD à pression atmosphérique, des substrats polymères, à densité surfacique d'énergie contrôlée. Le précurseur est ensuite déposé en post-décharge sur le substrat prétraité par Pulvérisation ElectroHydroDynamique en mode cône-jet à flux de matière contrôlé. Cette étude a permis de confirmer que la polymérisation est initiée par les radicaux générés en surface du substrat formant des dépôts de quelques µm d'épaisseur.