Ionenimplantation

In den letzten Jahren erschienen bereits mehrere Bcher zum Thema Ionenimplanta tion, die sich fast ausschlielich an auf dem Gebiet der Ionenimplantation ttige Wissenschaftler wenden und deshalb der Theorie einen sehr breiten Raum einrumen. Im Gegensatz hierzu wendet sich das vorliegende Werk weniger an den Implanta tionsfachmann, sondern mehr an Forscher und Entwickler in Industrie, F or schungslaboratorien und Hochschulen, die an der Ionenimplantation als neuem Hilfsmittel zur Vernderung von Materialeigenschaften interessiert sind und wissen wollen, ob die Ionenimplantation fr ihr Problem anwendbar ist. Bei einer solchen Ausrichtung mu deshalb nach unserer Meinung neben einem kurzen Abri der theoretischen Grundlagen vor allem die Behandlung von Problemen bei der Anwendung der Implantation im Vordergrund der Darstellung stehen, wovon hier zum Beispiel genannt seien die elektrische Aktivierung implantierter Ionen, Diffusionseffekte sowie die Diskussion der hauptschlich verwendeten Me methoden zur Untersuchung implantierter Schichten, die apparativen Anforderungen an Beschleunigungssysteme und natrlich zahlreiche Beispiele zur Anwendung der Ionenimplantation. Die Schwerpunkte des Buches liegen bei der Dotierung von Halbleitern durch Ionenimplantation, da dies zur Zeit und wahrscheinlich noch sehr lange ihre Hauptanwendung sein wird; dennoch wird von Fall zu Fall auf die weiteren Mglich keiten der Implantation eingegangen.