Processos microelectrnicos para o fabrico de VLSI

O livro "Micro-electronic Processes for VLSI Fabrication" é um guia completo e autorizado que analisa os princípios fundamentais e as técnicas avançadas utilizadas no fabrico de circuitos integrados de muito grande escala (VLSI). Abrangendo um vasto leque de tópicos, o livro começa com uma introdução aprofundada à tecnologia de semicondutores de silício, incluindo uma panorâmica dos materiais semicondutores, estrutura cristalina do silício, semicondutores intrínsecos e extrínsecos e os meandros da dopagem e da concentração de portadores. Os capítulos subsequentes aprofundam aspectos cruciais do fabrico de VLSI, explorando técnicas de processamento de bolachas, tais como crescimento, preparação, inspeção de defeitos e vários métodos de limpeza de bolachas. O processo crítico de oxidação é abordado em pormenor, explicando as técnicas de oxidação térmica, seca e húmida, bem como os modelos de crescimento de óxidos. O livro examina extensivamente os métodos de deposição epitaxial, incluindo a deposição química de vapor (CVD), a epitaxia por feixe molecular (MBE) e a epitaxia selectiva. A implantação e a difusão de iões, processos fundamentais para o fabrico de dispositivos semicondutores, são também meticulosamente discutidas, com informações sobre os processos de implantação de iões.