Caract risation L chelle Nanom trique D Interfaces M tal/Sioxny

Les syst mes constitu?'s d'interfaces m tal/silicium ou m tal/compos?'s de silicium sont tr?'s utilis?'s dans de nombreux secteurs technologiques. Les propri t?'s de ces syst mes d pendent fortement des interactions entre les mat riaux dans la zone de l'interface. Nous pr sentons les r sultats de l'analyse par EXES et SIMS des interfaces Mo/Si, Mo/SiO2, Mo/Si3N4, NiTi/Si, NiTi/SiO2 et NiTi/Si3N4. Les compos?'s interfaciaux d termin?'s par EXES sont localis?'s au travers de l'interface par SIMS. Les liens entre la r activit de ces interfaces et leur adh rence sont montr?'s pour certains de ces syst mes. La n cessit de l'emploi de techniques non destructives pour l'analyse physicochimique des interfaces est montr e au travers d'une comparaison de l'analyse EXES avec les analyses par XPS assist e par d capage ionique et par METHR-EELS. Nous d terminons les conditions de pr paration permettant de minimiser la r activit interfaciale de nos syst mes.